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      熱釋光測量系統

      產品簡介

      熱釋光測量系統由熱釋光探測器退火爐和熱釋光片組成。熱釋光探測器退火爐是對熱釋光探測器進行熱處理的設備,用于熱釋光探測器使用前和照射后的熱處理。使用前的熱處理用于消除探測器的殘余劑量,恢復探測器的初始靈敏度和發光曲線的形狀;照后低溫退火用于消除探測器的低溫峰,縮短測量周期,多用于大批量探測器的測量。

      產品型號:
      更新時間:2025-04-23
      廠商性質:生產廠家
      訪問量:3189
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      產地類別國產

      熱釋光探測器退火爐是對熱釋光探測器進行熱處理的設備,用于熱釋光探測器使用前和照射后的熱處理,是熱釋光測量系統的數據讀出部分。使用前的熱處理用于消除探測器的殘余劑量,恢復探測器的初始靈敏度和發光曲線的形狀;照后低溫退火用于消除探測器的低溫峰,縮短測量周期,多用于大批量探測器的測量。

      特點

      -自動校準、中文菜單、數據庫編譯/檢索、發光曲線顯示/存儲、數據打印、條碼掃描、模塊結構、性能穩定可靠、維修簡便

      -采用升降電加熱系統,采用移動式加熱盤,測量后可直接將加熱盤取下來,不需收樣器

      -半導體致冷:可根據需要改變光電倍增管的工作溫度,30min可制冷到5℃,降低光測量系統的熱噪聲信號,提高測量精度

      -電容式觸摸按鍵:上、下、左、右、確認

      -讀出器整機采用模塊結構,具有整體性好、外形美觀、性能可靠、簡便等特點

      -讀出器能夠雙抽屜結構,側抽屜用于光測量系統的清洗,可在線清洗(不需關機)

      -自動篩選:用于對探測器的篩選瀏覽,從待測探測器中隨意抽取一組探測器,測后求出其平均值

      -將平均值和所需分散性質(離散程度),輸入到出器中,即可根據讀出器面板給出的分檔號進行篩選測量,具有采用多臺讀出器對同一批探測器篩選的功能

      -雙抽屜結構:從食品中提取的硅酸鹽礦物質為顆粒狀,測量時樣品中的雜質會對光測量系統造成污染,可在線清潔光測量系統

      -抽屜在外清洗、烘干加熱盤

      -抽屜在外清洗加熱盤并在外程序烘干

       主要參數指標

      -測量系統穩定性:≤0.1%

      -加熱參數設置:儲存十組加熱參數,可根據需要改變參數設置

      -劑量線性測量范圍:10-2Gy~10Gy

      -測量系統穩定性:≤0.1%

      -靈敏度重復性的變化系數:≤0.1%±0.05%/℃

      -加熱時間重復性:≤0.1%

      -加熱溫度范圍 :0~500℃   加熱速率:1~40℃/s

      -加熱溫度重復性:≤1%   加熱溫度偏差:≤±1℃

      -半導體致冷:5℃(<30min),可根據需要設置制冷溫度

      -外形尺寸(W*D*H):280mm*440mm*420mm

      -重量:≤20kg

      -儲存溫度:-10~50℃

      -工作溫度:0~40℃

      -相對濕度:≤90%

      -電源:220V±10%,50Hz

       

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